scholarly journals Models and algorithms of soft error inducing mechanisms in ICs

2021 ◽  
Author(s):  
Πελοπίδας Τσουμάνης

Η αξιοπιστία των Ολοκληρωμένων Κυκλωμάτων (ΟΚ) ήταν ανέκαθεν μία από τις πιο συχνές ανησυχίες στον τομέα του VLSI, πόσο μάλλον σήμερα, που η συνεχής συρρίκνωση της τεχνολογίας που ακολουθεί το Νόμο του Moore τα καθιστά πιο ευάλωτα σε διάφορους παράγοντες. Η πρόκληση που έχει να κάνει με την αξιοπιστία και τα Μεταβατικά Σφάλματα που προκαλούνται από ιονίζουσα ακτινοβολία κερδίζει συνεχώς έδαφος και έχει τραβήξει την προσοχή αρκετών ερευνητών προσφάτως. Ένα σωματίδιο επαρκούς ενέργειας που συγκρούεται με ένα τρανζίστορ μπορεί να προκαλέσειδιαταραχή στην ισορροπία μεταξύ ηλεκτρονίων και οπών εντός της συσκευής, έχοντας ως αποτέλεσμα την αλλαγή της λογικής κατάστασης της εξόδου της πύλης που διαρκεί συνήθως ορισμένα picoseconds. Το προσωρινό αυτό φαινόμενο που εμφανίζεται ως ένας ανεπιθύμητος παλμός στην έξοδο, που καλείται και Single Event Transient (SET), μπορεί να επηρεάσει τη σωστή λειτουργία του κυκλώματος καθώς διαδίδεται και εν τέλει αποθηκεύεται σε κάποιο στοιχείο μνήμης. Αυτό ονομάζεται Μεταβατικό Σφάλμα και παρόλο που δεν είναι μόνιμο μπορεί να προκαλέσει απρόσμενη συμπεριφορά στο κύκλωμα. Έτσι, είναι σημαντικό για τη βιομηχανία να γνωρίζει την ευπάθεια των κυκλωμάτων σε τέτοιου είδους κινδύνους, ειδικότερα όταν αυτά αφορούν κρίσιμα συστήματα, όπως ιατρικά, αεροηλεκτρονικά, στρατιωτικά, κ.ά. Σε αυτήν τη διατριβή παρουσιάζουμε ένα ολοκληρωμένο πλαίσιο για τη μοντελοποίηση των Μεταβατικών Σφαλμάτων εξαιτίας της ιονίζουσας ακτινοβολίας στη συνδυαστική λογική των ΟΚ, παρέχοντας μία εκτίμηση της Συχνότητας Μεταβατικών Σφαλμάτων (ΣΜΣ), ενός ευρέως διαδεδομένου μέτρου για την ευπάθεια των ΟΚ σε τέτοιους κινδύνους. Η προτεινόμενη μεθοδολογία που βασίζεται σε Monte Carlo προσομοιώσεις, λαμβάνει υπόψην το φυσικό σχέδιο ενός κυκλώματος ούτως ώστε να μοντελοποιήσει τα Single Event Multiple Transients (SEMTs), τα οποία γίνονται ολοένα και πιο συχνά με τη συρρίκνωση της τεχνολογίας. Επίσης, παρουσιάζονται δύο παραλλαγές του κύριου αλγορίθμου της εκτίμησης της ΣΜΣ, για την ταυτοποίηση των ευαίσθητων περιοχών και των πιο ευαίσθητων πυλών ενός κυκλώματος, επιτρέποντας μικρές τροποποιήσεις είτε της σχεδίασης του κυκλώματος, είτε ακόμη και των στρατηγικών χωροθέτησής του στα πρώτα στάδια της σχεδίασης με σκοπό τη μείωση της ΣΜΣ. Τα αποτελέσματα της εκτίμησης της ΣΜΣ επιδεικνύονται με μία ποικιλία προσομοιώσεων που πραγματοποιούνται πάνω στα ISCAS ’89 κυκλώματα για τις τεχνολογίες των 45nm και 15nm, ενώ η επαλήθευση με το εργαλείο προσομοίωσης HSPICE υποδεικνύει αποδεκτή απόκλιση για τα μικρής κλίμακας κυκλώματα. Τέλος, εξετάζεται η συμπεριφορά της σύγχρονης τεχνολογίας κατασκευής ΟΚ Fully-Depleted Silicon-On-Insulator (FDSOI) απέναντι στα χτυπήματα των σωματιδίων και συγκρίνεται με τη συμβατική Bulk τεχνολογία μέσω προσομοιώσεων TCAD.

2018 ◽  
Vol 29 (4) ◽  
Author(s):  
Jing-Yan Xu ◽  
Shu-Ming Chen ◽  
Rui-Qiang Song ◽  
Zhen-Yu Wu ◽  
Jian-Jun Chen

2014 ◽  
Vol 23 (8) ◽  
pp. 088505 ◽  
Author(s):  
Jin-Shun Bi ◽  
Chuan-Bin Zeng ◽  
Lin-Chun Gao ◽  
Gang Liu ◽  
Jia-Jun Luo ◽  
...  

2014 ◽  
Vol 54 (9-10) ◽  
pp. 2278-2283 ◽  
Author(s):  
J.L. Autran ◽  
M. Glorieux ◽  
D. Munteanu ◽  
S. Clerc ◽  
G. Gasiot ◽  
...  

2013 ◽  
Vol 22 (01) ◽  
pp. 1350001
Author(s):  
FRANCISCO GÁMIZ ◽  
CARLOS SAMPEDRO ◽  
LUCA DONETTI ◽  
ANDRES GODOY

State-of-the-Art devices are approaching to the performance limit of traditional MOSFET as the critical dimensions are shrunk. Ultrathin fully depleted Silicon-on-Insulator transistors and multi-gate devices based on SOI technology are the best candidates to become a standard solution to overcome the problems arising from such aggressive scaling. Moreover, the flexibility of SOI wafers and processes allows the use of different channel materials, substrate orientations and layer thicknesses to enhance the performance of CMOS circuits. From the point of view of simulation, these devices pose a significant challenge. Simulations tools have to include quantum effects in the whole structure to correctly describe the behavior of these devices. The Multi-Subband Monte Carlo (MSB-MC) approach constitutes today's most accurate method for the study of nanodevices with important applications to SOI devices. After reviewing the main basis of MSB-MC method, we have applied it to answer important questions which remain open regarding ultimate SOI devices. In the first part of the chapter we present a thorough study of the impact of different Buried OXide (BOX) configurations on the scaling of extremely thin fully depleted SOI devices using a Multi-Subband Ensemble Monte Carlo simulator (MS-EMC). Standard thick BOX, ultra thin BOX (UTBOX) and UTBOX with ground plane (UTBOX+GP) solutions have been considered in order to check their influence on short channel effects (SCEs). The simulations show that the main limiting factor for downscaling is the DIBL and the UTBOX+GP configuration is the only valid one to downscale SGSOI transistors beyond 20 nm channel length keeping the silicon slab thickness above the theoretical limit of 5 nm, where thickness variability and mobility reduction would play an important role. In the second part, we have used the multisubband Ensemble Monte Carlo simulator to study the electron transport in ultrashort DGSOI devices with different confinement and transport directions. Our simulation results show that transport effective mass, and subband redistribution are the main factors that affect drift and scattering processes and, therefore, the general performance of DGSOI devices when orientation is changed


Sign in / Sign up

Export Citation Format

Share Document