Atomistic simulation of Ag thin films on MgO(100) substrate: A template substrate for heterogeneous adsorption

2005 ◽  
Vol 72 (3) ◽  
Author(s):  
A. Ouahab ◽  
C. Mottet ◽  
J. Goniakowski
Keyword(s):  
Thin Films ◽  
Atomistic Simulation ◽  
Template Substrate

On the features of dislocation–obstacle interaction in thin films: large-scale atomistic simulation

2006 ◽  
Vol 86 (8) ◽  
pp. 511-519 ◽  
Author(s):  
Y. N. Osetsky ◽  
Y. Matsukawa ◽  
R. E. Stoller ◽  
S. J. Zinkle
Keyword(s):  
Thin Films ◽  
Atomistic Simulation ◽  
Large Scale

scholarly journals Annealing of deposited SiO_2 thin films: full-atomistic simulation results

2016 ◽  
Vol 6 (12) ◽  
pp. 3960 ◽  
Author(s):  
F.V. Grigoriev ◽  
E.V. Katkova ◽  
A.V. Sulimov ◽  
V.B. Sulimov ◽  
A.V. Tikhonravov
Keyword(s):  
Thin Films ◽  
Atomistic Simulation ◽  
Simulation Results

scholarly journals Effect of nanoparticles on the structure of thin films: atomistic simulation results

2018 ◽  
pp. 173-177
Author(s):  
Ф.В. Григорьев ◽  
В.Б. Сулимов ◽  
А.В. Тихонравов
Keyword(s):  
Thin Films ◽  
Atomistic Simulation ◽  
Thin Film Deposition ◽  
High Energy ◽  
Film Structure ◽  
Distribution Functions ◽  
Film Deposition ◽  
Deposition Processes ◽  
Deposition Simulation ◽  
Dynamics Method

Предложена модель, описывающая влияние наночастиц на атомистическую структуру напыляемых тонких пленок. Модель основана на развитом ранее методе молекулярно-динамического моделирования процесса напыления тонких оптических покрытий и применена к пленкам диоксида кремния. Наночастица предполагается неподвижной, ее взаимодействие с атомами описывается сферически симметричным потенциалом. Структура пленки вблизи наночастицы исследуется с помощью радиальных функций распределения. Показано, что поведение этих функций около наночастицы существенно отличается для случаев высокоэнергетического и низкоэнергетического напыления. A model describing the effect of nanoparticles on the structure of thin films structure is proposed. The model is based on the previously developed molecular dynamics method of thin film deposition simulation and is applied to the study of silicon dioxide thin films. A nanoparticle is considered as a fixed object whose interaction with film atoms is described by a spherical symmetric potential. Radial distribution functions are used to study the film structure near the nanoparticle. It is shown that the behavior of these functions is essentially different near nanoparticles in the cases of high-energy and low-energy deposition processes.

Sign in / Sign up

Export Citation Format

Share Document