Erratum: The thermal stability of SiGe films deposited by ultrahigh vacuum chemical vapor deposition [J. Appl. Phys. 70, 1416 (1991)]

1991 ◽  
Vol 70 (11) ◽  
pp. 7194-7194 ◽  
Author(s):  
S. R. Stiffler ◽  
J. H. Comfort ◽  
C. L. Stanis ◽  
D. L. Harame ◽  
E. de Fresart ◽  
...  
1991 ◽  
Vol 70 (3) ◽  
pp. 1416-1420 ◽  
Author(s):  
S. R. Stiffler ◽  
J. H. Comfort ◽  
C. L. Stanis ◽  
D. L. Harame ◽  
E. de Frésart ◽  
...  

ChemInform ◽  
2007 ◽  
Vol 38 (2) ◽  
Author(s):  
J. Yu ◽  
Z. Zheng ◽  
H. C. Ong ◽  
K. Y. Wong ◽  
S. Matsumoto ◽  
...  

2006 ◽  
Vol 110 (42) ◽  
pp. 21073-21076 ◽  
Author(s):  
J. Yu ◽  
Z. Zheng ◽  
H. C. Ong ◽  
K. Y. Wong ◽  
S. Matsumoto ◽  
...  

Sign in / Sign up

Export Citation Format

Share Document