Logic depth aware context independent timing model generation

2016 ◽  
Author(s):  
Parag Bhatnagar ◽  
Naresh Kumar ◽  
P. S. Bhatnagar ◽  
N. K. Agarwal
Author(s):  
Ajay J. Daga ◽  
Loa Mize ◽  
Subramanyam Sripada ◽  
Chris Wolff ◽  
Qiuyang Wu

2016 ◽  
Author(s):  
Naresh Kumar ◽  
Parag Bhatnagar ◽  
N. K. Agarwal ◽  
P. S. Bhatnagar

2005 ◽  
Author(s):  
I. Wenzel ◽  
B. Rieder ◽  
R. Kirner ◽  
P. Puschner

2016 ◽  
Author(s):  
Naresh Kumar ◽  
Parag Bhatnagar ◽  
N. K. Agarwal ◽  
P. S. Bhatnagar

Author(s):  
A.J. Daga ◽  
L. Mize ◽  
S. Sripada ◽  
C. Wolff ◽  
Qiuyang Wu

2020 ◽  
Vol 96 (3s) ◽  
pp. 756-757
Author(s):  
Е.С. Шамин ◽  
Е.Л. Харченко

Данная работа посвящена описанию возможного алгоритма создания моделей резиста с постоянным порогом и расчета окон процесса на их основе. Приведенные изыскания реализованы в виде программного средства, использующего средства моделирования фотолитографии Mentor Graphics Calibre. This work is dedicated to the description of one of possible algorithms of constant threshold resist model generation used for photolithography process window calculation. This algorithm has been realized in the form of a program using Mentor Graphics Calibre modeling tools.


Sign in / Sign up

Export Citation Format

Share Document