Preparation, crystal structure, and low-temperature proton NMR study of (.eta.5-C5Me5)Fe(CO)2(.eta.1-C5H5). Reaction of (.eta.5-C5R5)Fe(CO)2(.eta.1-C5H5) (R = Me, H) with bis(trifluoromethyl)ketene

1985 ◽  
Vol 4 (2) ◽  
pp. 245-250 ◽  
Author(s):  
Michael E. Wright ◽  
Gregory O. Nelson ◽  
Richard S. Glass
2000 ◽  
Vol 10 (PR7) ◽  
pp. Pr7-99-Pr7-102 ◽  
Author(s):  
G. Dosseh ◽  
D. Morineau ◽  
C. Alba-Simionesco
Keyword(s):  

2020 ◽  
Vol 96 (3s) ◽  
pp. 148-153
Author(s):  
С.Д. Федотов ◽  
А.В. Бабаев ◽  
В.Н. Стаценко ◽  
К.А. Царик ◽  
В.К. Неволин

Представлены результаты изучения морфологии поверхности и структуры слоев AlN, сформированных аммиачной МЛЭ на темплейтах 3C-SiC/Si(111) on-axis- и 4° off-axis-разориентации. Опробован технологический режим низкотемпературной эпитаксии зародышевого слоя AlN на поверхности 3C-SiC(111). Среднеквадратичная шероховатость поверхности (5 х 5 мкм) слоев AlN толщиной 150 ± 50 нм составила 2,5-3,5 нм на темплейтах 3C-SiC/Si(111) on-axis и 3,3-3,5 нм на 4° off-axis. Показано уменьшение шероховатости смачивающего слоя AlN при изменении скорости роста. Получены монокристаллические слои AlN(0002) со значениями FWHM (ω-геометрия) 1,4-1,6°. The paper presents the surface morphology and crystal structure of AlN layers formed by ammonia MBE on 3C-SiC/Si(111) on-axis and 4° off-axis disorientation. It offers the technological approach of low-temperature epitaxy of the AlN nucleation layer on the 3C-SiC (111) surface. Root mean square roughness (5 х 5 |xm) of AlN layers with thickness of 150 ± 50 nm was 2,5-3,5 nm onto on-axis templates and 3.3-3.5 nm onto 4° off-axis. It appears that the RMS roughness of the AlN surface is changing with the growth rate variation. Single-crystal AlN(0002) layers with FWHM values (ω-geometry) of 1.4-1.6° have been obtained.


Sign in / Sign up

Export Citation Format

Share Document